به گفته این گزارش، هواوی مرکز تحقیق و توسعه ابزار بزرگی را در شانگهای برای توسعه لیتوگرافی و تجهیزات فاب ایجاد می کند

Huawei

چین که قادر به دسترسی به ابزارهای پیشرفته ویفر فاب تولیدکنندگان آمریکایی، اروپایی و ژاپنی نیست، مجبور است تجهیزات فاب خود را توسعه دهد. به گزارش نیکی، هوآوی در حال ساخت یک مرکز غول پیکر تحقیق و توسعه (R&D) در نزدیکی شانگهای است، جایی که قصد دارد ابزارهای ساخت تراشه را توسعه دهد که باید با سیستم های طراحی شده توسط ASML، Canon و Nikon قابل رقابت باشد.

مرکز تحقیق و توسعه بر روی توسعه ماشین‌های لیتوگرافی که برای ساخت تراشه‌ها بر روی گره‌های پیشرفته ضروری هستند، تمرکز خواهد کرد. در حال حاضر، شرکای هواوی SMIC و Hua Hong نمی‌توانند ابزارهای لیتویی را دریافت کنند که به آنها اجازه می‌دهد تراشه‌های منطقی را بر اساس فناوری‌های فرآیندی مبتنی بر FinFET 14 نانومتری و فرآیندهای پیشرفته‌تر بسازند، اما همچنان می‌توانند سیستم‌های لیتوگرافی با قابلیت 28 نانومتر را به دست آورند. بنابراین، ماشین‌های توسعه‌یافته هواوی باید حداقل ۲۸ نانومتر یا بهتر از ۱۴ نانومتر/۱۶ نانومتر باشند. در حال حاضر، ASML بیش از 90٪ از بازار ابزارهای لیتوگرافی را کنترل می کند.

مرجع اخبار سخت افزار کامپیوترایران

تحریریه Techpowerup