سال گذشته، انویدیا کتابخانه نرم افزاری cuLitho خود را معرفی کرد که قول می دهد سرعت توسعه ماسک های عکس را تا 40 برابر افزایش دهد. امروز، انویدیا اعلام کرد که با TSMC و Synopsys برای پیاده‌سازی پلتفرم لیتوگرافی محاسباتی خود برای استفاده در تولید، و استفاده از نسل بعدی پردازنده‌های گرافیکی Blackwell این شرکت برای برنامه‌های AI و HPC همکاری می‌کند.
توسعه ماسک‌های عکس گامی حیاتی برای هر تراشه‌ای است که تا کنون ساخته شده است و پلتفرم cuLitho انویدیا، که با الگوریتم‌های جدید هوش مصنوعی مولد بهبود یافته است، به طور قابل توجهی این فرآیند را سرعت می‌بخشد. NVIDIA می‌گوید لیتوگرافی محاسباتی ده‌ها میلیارد ساعت در سال روی CPUها مصرف می‌کند. با استفاده از لیتوگرافی محاسباتی با شتاب GPU، cuLitho به طور قابل ملاحظه ای نسبت به روش های سنتی مبتنی بر CPU بهبود می یابد. به عنوان مثال، 350 سیستم NVIDIA H100 اکنون می توانند جایگزین 40000 سیستم CPU شوند، که در نتیجه زمان تولید سریعتر، هزینه کمتر و کاهش نیاز به فضا و انرژی را به همراه دارد.
انویدیا ادعا می‌کند که الگوریتم‌های هوش مصنوعی مولد جدید، سرعت بیشتری را ۲ برابر در فرآیندهای تسریع‌شده از طریق cuLitho فراهم می‌کنند. این بهبود به ویژه برای فرآیند تصحیح مجاورت نوری (OPC) مفید است و به ایجاد ماسک‌های معکوس تقریباً عالی برای محاسبه پراش نور اجازه می‌دهد.
TSMC می‌گوید که ادغام cuLitho در جریان کاری خود منجر به افزایش سرعت 45 برابری جریان‌های منحنی و بهبود تقریباً 60 برابری در جریان‌های سبک منهتن شده است. جریان های منحنی شامل اشکال ماسک هستند که با منحنی ها نشان داده می شوند، در حالی که اشکال ماسک منهتن به جهت های افقی یا عمودی محدود می شوند.
Synopsys، توسعه‌دهنده پیشرو اتوماسیون طراحی الکترونیکی (EDA)، می‌گوید که نرم‌افزار سنتز ماسک Proteus آن که بر روی کتابخانه نرم‌افزار NVIDIA cuLitho اجرا می‌شود، بارهای کاری محاسباتی را در مقایسه با روش‌های مبتنی بر CPU فعلی تسریع کرده است. این شتاب برای فعال کردن مقیاس در سطح آنگستروم و کاهش زمان چرخش در تولید تراشه بسیار مهم است.
همکاری بین NVIDIA، TSMC و Synopsys نشان دهنده پیشرفت قابل توجهی در تولید نیمه هادی به طور کلی و پذیرش cuLitho به طور خاص است. شرکا با استفاده از محاسبات تسریع شده و هوش مصنوعی مولد، امکانات مقیاس‌پذیری نیمه‌رسانا را پیش می‌برند و فرصت‌های نوآوری جدیدی را در طراحی تراشه‌ها باز می‌کنند.
