هواوی اسکنر EUV را برای تراشه های زیر 7 نانومتری چینی آماده می کند


هواوی، غول فناوری چین، طبق گزارش‌ها، پتنت‌هایی را به ثبت رسانده است که در حال توسعه اسکنرهای فرابنفش شدید (EUV) برای استفاده در فرآیند تولید نیمه‌رسانا است. این خبر در بحبوحه تنش های فزاینده بین هواوی و دولت آمریکا منتشر می شود که در سال های اخیر مجموعه ای از تحریم ها را علیه این شرکت اعمال کرده است. طبق گزارش UDN، هواوی پتنتی را به ثبت رسانده است که کل اسکنر EUV را با منبع نور 13.5 نانومتری EUV، آینه ها، لیتوگرافی برای مدارهای چاپ و کنترل مناسب سیستم پوشش می دهد. در حالی که ثبت اختراع مشابه ایجاد یک اسکنر EUV دقیق نیست، اما می تواند به چین اجازه دهد تا دسته ای از تراشه های زیر 7 نانومتری تولید کند و تولید نیمه هادی های محلی را علیرغم تحریم های ایالات متحده داشته باشد.

توسعه اسکنرهای EUV نقطه عطفی برای هواوی و صنعت نیمه هادی است. با این حال، پیشرفت این شرکت در این زمینه می تواند به دلیل تحریم های دولت آمریکا که دسترسی هواوی به فناوری ها و بازارهای خاصی را محدود کرده است، با مشکل مواجه شود. نکته مهم این است که SMIC چین می خواست تولید EUV را بر اساس ابزارهای EUV شخص ثالث توسعه دهد. با این حال، با اجرایی شدن توافقنامه واسنار و ممنوعیت فروش ابزارهای پیشرفته به شرکت های چینی، این طرح ها لغو شد. توسعه هوآوی می تواند نشان دهنده مرحله جدیدی برای کل صنعت چین باشد.



مرجع اخبار سخت افزار کامپیوترایران